一種考慮電子束霧化效應的解析布局方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010329230.8 申請日 -
公開（公告）號 CN111507058A 公開（公告）日 2020-08-07
申請公布號 CN111507058A 申請公布日 2020-08-07
分類號 G06F30/3947 分類 -
發(fā)明人 陳建利;黃志鵬 申請（專利權(quán)）人 福州立芯科技有限公司
代理機構(gòu) 福州元創(chuàng)專利商標代理有限公司 代理人 福州立芯科技有限公司
地址 350100 福建省福州市閩侯縣南嶼鎮(zhèn)烏龍江南大道79號信通國際中心3#1303
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種考慮電子束霧化效應的解析布局方法，包括如下步驟：1、布局框架：使用Λ型多層框架來處理布局中的大規(guī)模設(shè)計，以進行全局布局；2、霧化變化建模：對評估點進行采樣，這些評估點均勻分布在整個布局中；利用霧源模型的評估點，通過帶有Hermite展開的快速高斯變換估計每個評估點的霧化效果；3、設(shè)定一個同時考慮線長優(yōu)化和霧化變化優(yōu)化的目標函數(shù)；4、通過共軛梯度算法來優(yōu)化布局線長長度；5、刪除重疊的單元格部分，并使標準單元格對齊，以盡可能保留全局布局獲得的布局結(jié)果；6、詳細布局，通過計算交換面積變化系數(shù)，以決定是否在選定的標準單元進行交換。該方法有利于優(yōu)化布局質(zhì)量，在優(yōu)化線長的同時減小霧化變化。