光場調(diào)制器及其調(diào)制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110002589.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112748582A 公開（公告）日 2021-05-04
申請公布號 CN112748582A 申請公布日 2021-05-04
分類號 G02B27/09;G02B27/00;G02B3/00;G01B11/22 分類 光學(xué);
發(fā)明人 孟玉凰;黃河;樓歆曄;鄭旭君;林濤 申請（專利權(quán)）人 上海鯤游光電科技有限公司
代理機構(gòu) 寧波理文知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 羅京;安威威
地址 201203 上海市浦東新區(qū)自由貿(mào)易試驗區(qū)碧波路518號201室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種光投射方法和光探測方法。該光投射方法包括步驟：發(fā)射一探測光至一光場調(diào)制器；和通過該光場調(diào)制器，調(diào)制該探測光以均勻地投射至對應(yīng)的目標區(qū)域，以便對光源發(fā)出的光進行勻化，使得光能夠均勻地照亮對應(yīng)的該目標區(qū)域，提高了光能的利用率。