一種能提高鍍膜質(zhì)量的手機(jī)外殼鍍膜加工裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821416698.5 申請日 -
公開（公告）號 CN209010593U 公開（公告）日 2019-06-21
申請公布號 CN209010593U 申請公布日 2019-06-21
分類號 C23C14/34（2006.01）I; C23C14/50（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱勝發(fā); 吳杰 申請（專利權(quán)）人 廣東四象智能制造股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 廣東四象智能制造股份有限公司
地址 523000 廣東省東莞市謝崗鎮(zhèn)趙林村金川工業(yè)區(qū)金川四路2號廣東四象智能制造股份有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及鍍膜加工裝置技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種能提高鍍膜質(zhì)量的手機(jī)外殼鍍膜加工裝置，其包括真空室、設(shè)置于真空室內(nèi)的用于懸掛手機(jī)外殼的掛件治具、與掛件治具連接的旋轉(zhuǎn)軸、與旋轉(zhuǎn)軸驅(qū)動(dòng)連接的驅(qū)動(dòng)電機(jī)、設(shè)置于真空室上壁面的第一濺射靶和第一加熱器、設(shè)置于真空室下壁面的第二濺射靶和第二加熱器、設(shè)置于真空室左壁面的第三濺射靶和第三加熱器、設(shè)置于真空室右壁面的第四濺射靶和第四加熱器、以及與真空室連接的用于調(diào)節(jié)真空室的內(nèi)部壓力的壓力調(diào)節(jié)組件。該能提高鍍膜質(zhì)量的手機(jī)外殼鍍膜加工裝置能夠使得手機(jī)外殼的鍍膜的覆蓋面均勻，進(jìn)而提高手機(jī)外殼的鍍膜質(zhì)量。