代替藍(lán)寶石襯底晶片酸洗的清洗工藝
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010039168.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN111185432A | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-05-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111185432A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-05-22 |
分類號(hào) | B08B3/08;B08B3/12;B08B3/02;B08B1/00;B08B7/04;H01L21/02;H01L33/00;F26B11/02;F26B3/30 | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 高長(zhǎng)有;劉敏;陳志敏;張頊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇京晶光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京行高知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 江蘇京晶光電科技有限公司 |
地址 | 213300 江蘇省常州市溧陽(yáng)市上黃科技創(chuàng)業(yè)園飛躍路8號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種代替藍(lán)寶石襯底晶片酸洗的清洗工藝,包括先用刷洗去除表面大顆粒,再用乳化劑浸泡控制晶片表面的吸附狀態(tài),然后用清洗劑去除晶片表面的臟污,再用含有催化劑的臭氧水清洗去除晶片表面的有機(jī)物和金屬離子,之后使用清洗劑去除催化劑,最后置于異丙醇內(nèi)去除晶片表面的亞微米顆粒,降低表面金屬離子含量和避免水痕缺陷的產(chǎn)生,同時(shí)也避免了傳統(tǒng)加熱干燥過(guò)程中產(chǎn)生的靜電,保證晶片表面不被二次污染。本發(fā)明的清洗工藝在去除了酸洗工藝的同時(shí),能夠提高去除有機(jī)物、金屬污染物和微粒的效率。 |
