代替藍(lán)寶石襯底晶片酸洗的清洗工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010039168.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111185432B 公開（公告）日 2021-03-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN111185432B 申請(qǐng)公布日 2021-03-19
分類號(hào) F26B3/30(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B1/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;H01L33/00(2010.01)I;B08B3/12(2006.01)I;B08B7/04(2006.01)I;F26B11/02(2006.01)I 分類 清潔;
發(fā)明人 高長有;劉敏;陳志敏;張頊 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇京晶光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京行高知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 肖念
地址 213300江蘇省常州市溧陽市上黃科技創(chuàng)業(yè)園飛躍路8號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種代替藍(lán)寶石襯底晶片酸洗的清洗工藝，包括先用刷洗去除表面大顆粒，再用乳化劑浸泡控制晶片表面的吸附狀態(tài)，然后用清洗劑去除晶片表面的臟污，再用含有催化劑的臭氧水清洗去除晶片表面的有機(jī)物和金屬離子，之后使用清洗劑去除催化劑，最后置于異丙醇內(nèi)去除晶片表面的亞微米顆粒，降低表面金屬離子含量和避免水痕缺陷的產(chǎn)生，同時(shí)也避免了傳統(tǒng)加熱干燥過程中產(chǎn)生的靜電，保證晶片表面不被二次污染。本發(fā)明的清洗工藝在去除了酸洗工藝的同時(shí)，能夠提高去除有機(jī)物、金屬污染物和微粒的效率。??