一種遮光層、復(fù)合膜層及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210179811.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114551607A 公開（公告）日 2022-05-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN114551607A 申請(qǐng)公布日 2022-05-27
分類號(hào) H01L31/0216（2014.01）I;H01L31/118（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I;C23C14/18（2006.01）I;C23C14/30（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 段志昱;湯三奇;席守智;陳玉霞;王宇;梁永;高孟;何麗麗 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 陜西迪泰克新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 -
地址 712000陜西省西安市西咸新區(qū)秦漢新城周陵新興產(chǎn)業(yè)園區(qū)天工一路東段8號(hào)-1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種遮光層、復(fù)合膜層及其制備方法，涉及放射性元素探測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，本發(fā)明的遮光層，被配制于碲鋅鎘晶體表面，包括交替層疊的多個(gè)第一遮光層和第二遮光層，第一遮光層的致密度大于第二遮光層的致密度，第二遮光層的應(yīng)力小于第一遮光層的應(yīng)力。本發(fā)明提供的遮光層，通過多個(gè)第一遮光層和第二遮光層交替層疊的方式形成，實(shí)現(xiàn)了遮光層應(yīng)力釋放的同時(shí)，將對(duì)遮光層致密度的影響降低到最小，使得上述遮光層可以在低溫條件下制備得到較大的厚度，且遮光性較好，與碲鋅鎘晶體的結(jié)合力較高。