一種四元發(fā)光二極管
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201420308163.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN203932092U | 公開(公告)日 | 2014-11-05 |
申請公布號 | CN203932092U | 申請公布日 | 2014-11-05 |
分類號 | H01L33/02(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 杜曉東 | 申請(專利權(quán))人 | 北京太時芯光科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 北京太時芯光科技有限公司;馬鞍山太時芯光科技有限公司 |
地址 | 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)地澤北街一號一層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提出了一種四元發(fā)光二極管,自下而上依次包括襯底、緩沖層、布拉格反射器、下包覆層、發(fā)光層、上包覆層、局部摻雜突變區(qū)、外延窗口層、上電極和下電極,局部摻雜突變區(qū)位于上電極的正下方,在襯底上通過第一次外延生長依次形成緩沖層、布拉格反射器、下包覆層、發(fā)光層和上包覆層,通過第二次外延生長形成外延窗口層。本實(shí)用新型通過結(jié)構(gòu)優(yōu)化,不僅是在電極下方通過外延手段制作的局部摻雜突變區(qū),減少載流子在電極正下方復(fù)合,同時結(jié)合氧化布拉格反射器外圍區(qū)域,使發(fā)光二極管的出光效率得到了有效提高。 |
