一種連續(xù)化去除核級(jí)電解鋯中鹵化物雜質(zhì)裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810852039.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN109055740A | 公開(kāi)(公告)日 | 2018-12-21 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109055740A | 申請(qǐng)公布日 | 2018-12-21 |
分類號(hào) | C22B3/22;C22B3/02;C22B34/14;C25C3/26;C25C7/06 | 分類 | 冶金;黑色或有色金屬合金;合金或有色金屬的處理; |
發(fā)明人 | 賈文成;胡國(guó)靜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 東營(yíng)騏豐鈦業(yè)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 100160 北京市豐臺(tái)區(qū)南四環(huán)西路188號(hào)(一區(qū))總部公館B座2115室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種連續(xù)化去除核級(jí)電解鋯中鹵化物雜質(zhì)裝置,在1200℃高溫及真空條件下,加熱核級(jí)電解鋯,其中殘留的氟化鈉、氟化鉀、氯化鈉、氯化鉀等電解質(zhì)受熱熔化,逐步蒸發(fā),形成電解質(zhì)蒸汽。熔化的電解質(zhì)在重力的作用下,經(jīng)石英濾芯過(guò)濾,滴落至低溫區(qū)坩堝內(nèi)。氣化的電解質(zhì),擴(kuò)散至低溫區(qū),在水冷璧上冷凝成固體。經(jīng)過(guò)25?30時(shí)高溫真空蒸餾處理,核級(jí)電解鋯中的鹵化物殘留全部消除干凈。然后充入高純氬氣,將蒸餾倉(cāng)轉(zhuǎn)移至水冷套中進(jìn)行冷卻降溫,降低至室溫后可獲得高純核級(jí)電解鋯晶體。 |
