一種用于堿背多晶黑硅片的清洗裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121912410.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215785526U | 公開(公告)日 | 2022-02-11 |
申請公布號 | CN215785526U | 申請公布日 | 2022-02-11 |
分類號 | B08B11/00(2006.01)I;B08B11/02(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 趙衛(wèi)東;楊冬琴;蔣勇;周波;申忍 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇東鋆光伏科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 江陰市輕舟專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 孫燕波 |
地址 | 214421江蘇省無錫市江陰市華士鎮(zhèn)海達路58號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種用于堿背多晶黑硅片的清洗裝置,涉及多晶黑硅片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型包括儲液桶、支撐架和若干清洗盤,支撐架為中空圓環(huán)狀架體結(jié)構(gòu),支撐架固定在儲液桶外表面的上部,支撐架周側(cè)面設有若干外凸殼,支撐架內(nèi)底面通過回轉(zhuǎn)支承轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)圈。本實用新型通過設置吸附盤能夠?qū)杵M行吸附固定,同時通過設置可旋轉(zhuǎn)的吸附盤能夠帶動硅片進行轉(zhuǎn)動,并且在清洗盤一側(cè)設置噴頭,能夠?qū)崿F(xiàn)離心清洗,能夠有效提高硅片的清洗效率,同時設置多個清洗座,并且配置適配的傳動機構(gòu),能夠使用一個驅(qū)動電機同時控制多個吸附盤的旋轉(zhuǎn),從而大大提高清洗效率,并且具備節(jié)能的作用。 |
