一種氮化鋁陶瓷基板用拋光液及其制備方法和拋光方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011483351.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN112521866A 公開(kāi)(公告)日 2021-03-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN112521866A 申請(qǐng)公布日 2021-03-19
分類號(hào) B24B1/00(2006.01)I;B24B57/02(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I 分類 染料;涂料;拋光劑;天然樹(shù)脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 苑亞斐;成淼;李雪梅 申請(qǐng)(專利權(quán))人 北京國(guó)瑞升科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 代理人 王煥
地址 100085北京市海淀區(qū)上地信息路12號(hào)1號(hào)樓C402、C406室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及研磨拋光技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種氮化鋁陶瓷基板用拋光液及其制備方法和拋光方法。本發(fā)明的氮化鋁陶瓷基板用拋光液,主要由以下質(zhì)量份數(shù)的組分組成:氧化鋁磨料90~110份、分散劑4~12份和水850~950份;采用pH調(diào)節(jié)劑調(diào)節(jié)所述拋光液的pH為3~5。本發(fā)明的拋光液可有效的對(duì)氮化鋁陶瓷基板進(jìn)行拋光處理,提高拋光速率,顯著降低表面粗糙度,易清洗,減少氮化鋁陶瓷基板拋光過(guò)程中的二次劃傷。??