一種碲電解沉積裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021126510.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212640624U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212640624U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-02 |
| 分類號(hào) | C25B9/00(2021.01)I;C25B15/025(2021.01)I;C25B1/01(2021.01)I;C25B15/021(2021.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 許順磊;宋朝文;劉顯杰;丁剛強(qiáng);李玉龍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中船重工黃岡貴金屬有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 武漢凌達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 劉念濤 |
| 地址 | 438000湖北省黃岡市化工園黃州火車站 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種碲電解沉積裝置，包括設(shè)置在同一水平面的配液釜、電解槽和位于低位的循環(huán)槽，電解槽上設(shè)置有導(dǎo)電銅排，配液釜和電解槽分別通過(guò)溢流管與循環(huán)槽連接，電解槽上側(cè)設(shè)置有連通溢流管的溢流槽，所述的溢流管上設(shè)置有開(kāi)關(guān)閥門和流量計(jì)，所述的開(kāi)關(guān)閥門和流量計(jì)連接PLC控制柜，PLC控制柜內(nèi)設(shè)置有與導(dǎo)電銅排連接的整流電源，所述的循環(huán)槽內(nèi)設(shè)置有循環(huán)泵，所述的電解槽底端設(shè)置有進(jìn)液口，所述的進(jìn)液口通過(guò)循環(huán)管連接循環(huán)泵；電解液可在電解過(guò)程中邊循環(huán)流動(dòng)邊電解，最大程度保證了電解過(guò)程中電解液離子濃度均勻性，提高了電解效率和電解碲產(chǎn)品質(zhì)量。?? |
