一種直流支撐電容器用漸變式方阻金屬化薄膜

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022684227.6 申請日 -
公開（公告）號 CN213483563U 公開（公告）日 2021-06-18
申請公布號 CN213483563U 申請公布日 2021-06-18
分類號 H01G4/015（2006.01）I;H01G4/005（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 鐘秀珍;李根;陳有華 申請（專利權）人 佛山易事達電容材料有限公司
代理機構 佛山卓就專利代理事務所（普通合伙） 代理人 陳雪梅
地址 528000廣東省佛山市禪城區(qū)東鄱南路4號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于電器元件技術領域，尤其為一種直流支撐電容器用漸變式方阻金屬化薄膜，包括第一薄膜和第二薄膜，第一基膜的上表面分別對稱蒸鍍有第一加厚區(qū)金屬鍍層、第一漸變區(qū)金屬鍍層和第一普通區(qū)金屬鍍層，第一薄膜中間設有無金屬鍍層的留邊，第二基膜的上表面蒸鍍有第二加厚區(qū)金屬鍍層，第二基膜的上表面兩邊分別對稱蒸鍍有第二漸變區(qū)金屬鍍層和第二普通區(qū)金屬鍍層，第二薄膜兩邊設有無金屬鍍層的留邊，第二基膜的金屬鍍層與第一基膜固定連接。第一漸變區(qū)金屬鍍層和第二漸變區(qū)金屬鍍層的區(qū)域方阻逐步變化，使得電容器產(chǎn)品上的電流均勻分布，有效克服階梯式方阻金屬化膜因鍍層厚度一致，方阻相同，電流載流量和自愈能力不能有效兼顧的難題。