無背景寬場與低損超分辨兩用成像裝置及成像方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210602811.3 申請日 -
公開（公告）號 CN114689558A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114689558A 申請公布日 2022-07-01
分類號 G01N21/64（2006.01）I;G02B27/28（2006.01）I;G02B27/58（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 張琪;燕一皓;殷俊;石發(fā)展;杜江峰 申請（專利權(quán)）人 中國科學技術(shù)大學
代理機構(gòu) 中科專利商標代理有限責任公司 代理人 -
地址 230026安徽省合肥市包河區(qū)金寨路96號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種無背景寬場與低損超分辨兩用成像裝置及成像方法，該裝置包括：第一泵浦光單元，用于生成第一波長光束；第二泵浦光單元，用于生成第二波長光束；樣品單元，放置有包括熒光信標的待測樣品，樣品單元用于接收第一波長光束，對熒光信標的電荷態(tài)進行初始化，接收第二波長光束，對熒光信標的電荷態(tài)進行調(diào)制，以及輸出經(jīng)由熒光信標發(fā)射的第一波長光束信號、第二波長光束信號和對應(yīng)于不同電荷態(tài)熒光信標的熒光光子信號其中至少之一；收集單元，用于輸出經(jīng)濾波處理得到的目標光子信號；控制單元，用于接收目標光子信號，以及根據(jù)目標光子信號生成無背景寬場圖像或低損超分辨圖像。