一種紅外光源及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410785061.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN104576860A 公開（公告）日 2015-04-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN104576860A 申請(qǐng)公布日 2015-04-29
分類號(hào) H01L33/10(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I;H01L33/38(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 紀(jì)新明 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 太倉微芯電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海晨皓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 太倉微芯電子科技有限公司
地址 215400 江蘇省蘇州市太倉市科教新城健雄路20號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及紅外技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種紅外光源及其制備方法。本發(fā)明中，紅外光源，包含：襯底、反射層、支撐體與圖形化電極；反射層淀積在襯底之上；支撐層淀積在反射層上，圖形化電極淀積在支撐層之上，等離子體反應(yīng)離子刻蝕(RIE)去除非圖形區(qū)域支撐層材料，獲取圖形化電極的支撐體，其中，支撐體的橫截面的圖形與圖形化電極的圖形相同且重合。與現(xiàn)有技術(shù)相比，非懸空支撐體結(jié)構(gòu)，提高了器件的機(jī)械強(qiáng)度，產(chǎn)品良率，保證了器件壽命；同時(shí)，由于非圖形化支撐體區(qū)域?yàn)榭障?，可以減少熱傳導(dǎo)通路，降低熱質(zhì)量，提高紅外光源的動(dòng)態(tài)性能；而且，位于支撐體下的反射層可以將圖形化電極產(chǎn)生的熱量反射回去，降低熱損耗，提高發(fā)光強(qiáng)度。