高色彩飽和度硅基OLED微型顯示器及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011060897.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112201678A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-01-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112201678A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-08 |
分類號(hào) | H01L27/32(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王光華;陳雪梅;楊麗麗;高思博;段登輝;季華夏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 昆明祥和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司 |
地址 | 650223云南省昆明市五華區(qū)教場(chǎng)東路31號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光二極管制造技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種硅基OLED微型顯示器及其制備方法,該顯示器由硅基CMOS驅(qū)動(dòng)電路基底、頂部發(fā)光多層復(fù)合陽(yáng)極、藍(lán)光有機(jī)發(fā)光層、增透層、量子點(diǎn)彩色過(guò)濾層、無(wú)機(jī)或高分子復(fù)合薄膜密封層以及玻璃蓋片組成;該顯示器的制備中運(yùn)用干法刻蝕工藝制備復(fù)合陽(yáng)極像素點(diǎn),并應(yīng)用摻雜方式實(shí)現(xiàn)藍(lán)光有機(jī)發(fā)光層的制備。所述顯示器具備光損耗少的特點(diǎn)。?? |
