e形多電子束蒸鍍裝置及電子槍電路

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911379047.2 申請日 -
公開（公告）號 CN111088479A 公開（公告）日 2020-05-01
申請公布號 CN111088479A 申請公布日 2020-05-01
分類號 C23C14/30;H01J3/02 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 魯朝宇;鄧榮斌;馬興民;張麗娟;段堯;方江璨 申請（專利權(quán)）人 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 昆明祥和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司
地址 650223 云南省昆明市五華區(qū)教場東路31號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種e形多電子束蒸鍍裝置，該蒸鍍設(shè)備包括永久磁鐵N極、S極、X/Y掃描線圈、坩堝、冷卻水及電子束發(fā)射器；采用磁偏轉(zhuǎn)式電子束，使得電子束路徑呈現(xiàn)e字型，偏轉(zhuǎn)角為270度，其中電子束發(fā)射器的由燈絲陰極、陽極、偏轉(zhuǎn)線圈等其他部件構(gòu)成。從多電子束與旋轉(zhuǎn)坩堝兩方面應(yīng)對電子槍故障問題。e形多電子束蒸鍍設(shè)計(jì)大幅度提高了蒸鍍效率和熔點(diǎn)，此外，為了提高蒸鍍過程薄膜沉積速率精度和穩(wěn)定性，本發(fā)明專利從熱電子發(fā)射模塊、高壓電子加速模塊和電子束偏轉(zhuǎn)模塊三個方面設(shè)計(jì)了新的電子槍電路。