一種適用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201922399071.4 申請日 -
公開（公告）號 CN211497763U 公開（公告）日 2020-09-15
申請公布號 CN211497763U 申請公布日 2020-09-15
分類號 C23C14/24(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 魯朝宇;張麗娟;鄧榮斌;段堯;馬興民;方江璨;高思博 申請（專利權）人 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司
代理機構 昆明祥和知識產權代理有限公司 代理人 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司
地址 650223云南省昆明市五華區(qū)教場東路31號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種適用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置，涉及真空蒸鍍裝置技術領域。用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置，包括基板、材料倉和降溫腔，所述基板的內部開設有材料倉，材料倉周圍開設有降溫腔，所述基板的底部設置有第一降溫管、第二降溫管和第三降溫管，所述降溫腔的內部開設有與第一降溫管、第二降溫管和第三降溫管相適配的孔。適用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置，主要通過設置第一降溫管內所通的高溫水，對其所需要降溫的材料進行小幅度的降溫，其次，第二、三降溫管進行緩慢的降溫，對材料和坩堝起到了良好的保護作用，有效的避免了直接冷卻降溫對材料和坩堝本身造成的損害。??