一種適用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201922399071.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211497763U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-09-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211497763U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-15 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/24(2006.01)I | 分類(lèi) | - |
| 發(fā)明人 | 魯朝宇;張麗娟;鄧榮斌;段堯;馬興民;方江璨;高思博 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 昆明祥和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 云南北方奧雷德光電科技股份有限公司 |
| 地址 | 650223云南省昆明市五華區(qū)教場(chǎng)東路31號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種適用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置，涉及真空蒸鍍裝置技術(shù)領(lǐng)域。用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置，包括基板、材料倉(cāng)和降溫腔，所述基板的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有材料倉(cāng)，材料倉(cāng)周?chē)_(kāi)設(shè)有降溫腔，所述基板的底部設(shè)置有第一降溫管、第二降溫管和第三降溫管，所述降溫腔的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有與第一降溫管、第二降溫管和第三降溫管相適配的孔。適用于真空鍍膜的襯底冷卻裝置，主要通過(guò)設(shè)置第一降溫管內(nèi)所通的高溫水，對(duì)其所需要降溫的材料進(jìn)行小幅度的降溫，其次，第二、三降溫管進(jìn)行緩慢的降溫，對(duì)材料和坩堝起到了良好的保護(hù)作用，有效的避免了直接冷卻降溫對(duì)材料和坩堝本身造成的損害。?? |
