一種在基片上快速制備所需形狀功能電極層的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610752549.5 申請日 -
公開（公告）號 CN106324922A 公開（公告）日 2017-01-11
申請公布號 CN106324922A 申請公布日 2017-01-11
分類號 G02F1/1343(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 楊澤新 申請（專利權(quán)）人 貴州乾萃科技有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 史明罡
地址 563000 貴州省遵義市新蒲經(jīng)濟開發(fā)區(qū)辦公室二樓202室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種在基片上快速制備所需形狀功能電極層的方法。本發(fā)明方法包括如下步驟：(1)在基片上制備功能電極層；(2)在步驟(1)所制備的功能電極層上使用模板印刷的方式直接制備出具有所需形狀的抗蝕劑層；(3)將步驟(2)所得基片的功能電極層進行刻蝕處理；(4)將步驟(3)所得刻蝕后的基片上的所需形狀的抗蝕劑層去除，得到具有所需形狀功能電極的基片。本發(fā)明方法工藝簡單，采用模板印刷的方式，在功能電極層上制備出具有所需形狀的抗蝕劑層的用時很短，且不需要消耗長時間去除多余的抗蝕劑層部分，能夠極大地節(jié)省所需形狀的抗蝕劑層的制備時間，從而縮短所需形狀功能電極層的基片的生產(chǎn)時間，提高生產(chǎn)效率。