畫素結(jié)構(gòu)及其制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201210470170.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN103137619B | 公開(公告)日 | 2016-03-30 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103137619B | 申請(qǐng)公布日 | 2016-03-30 |
分類號(hào) | H01L27/02(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 韓家榮;歐李啟維;陳柏瑋;許宇禪;黃雋堯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 華映光電股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 福州君誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 華映光電股份有限公司;中華映管股份有限公司 |
地址 | 350000 福建省福州市馬尾區(qū)科技園區(qū)興業(yè)路1號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種畫素結(jié)構(gòu),其包括一閘極、一電容電極、一電容透明電極、一閘絕緣層、一半導(dǎo)體層、一源極、一汲極、一保護(hù)層以及一畫素電極。閘極與電容電極配置于一基板上。電容透明電極覆蓋電容電極與部分基板。閘絕緣層覆蓋閘極與電容透明電極。閘絕緣層具有一暴露出部分電容透明電極的開口。源極與汲極暴露出部分半導(dǎo)體層。保護(hù)層覆蓋源極、汲極、閘絕緣層以及開口所暴露出的電容透明電極。保護(hù)層具有一暴露出部分汲極的接觸窗,且畫素電極穿過(guò)接觸窗與汲極電性連接。畫素電極與開口所暴露出的電容透明電極之間具有一重迭區(qū)域以構(gòu)成一儲(chǔ)存電容。 |
