直拉單晶用加熱器及直拉單晶方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510729021.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106637387A | 公開(公告)日 | 2017-05-10 |
申請公布號 | CN106637387A | 申請公布日 | 2017-05-10 |
分類號 | C30B15/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 吳丹 | 申請(專利權)人 | 西安通鑫半導體輔料有限公司 |
代理機構 | 西安弘理專利事務所 | 代理人 | 羅笛 |
地址 | 710300 陜西省西安市戶縣灃京工業(yè)園潭濱北路3號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開的直拉單晶用加熱器,具有相對的第一端部和第二端部,加熱器主體具有多個第一狹槽以及第二狹槽,第一狹槽與多個第二狹槽交替設置,相鄰的兩個第一狹槽之間形成發(fā)熱單元,發(fā)熱單元包括加熱段,至少一個加熱段具有開口。本發(fā)明公開的直拉單晶方法,包括:裝料;化料以形成熔體;調(diào)節(jié)直晶功率,控制熔體的縱向溫度梯度,將籽晶插入熔體表面進行熔接,并依次引晶、放肩、轉肩、等徑生長及收尾后即得單晶硅。本發(fā)明的直拉單晶用加熱器在發(fā)熱單元的加熱段上具有開口結構,可根據(jù)產(chǎn)品品質需求進行相應調(diào)整,本發(fā)明的直拉單晶方法拉制單晶硅,能形成適應高拉速、低雜質含量、低缺陷等各種需求的、優(yōu)化的溫度梯度,從而最終獲得高品質的單晶硅。 |
