一種降低硫氰酸紅霉素溶劑殘留的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110391702.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113201038A 公開（公告）日 2021-08-03
申請公布號 CN113201038A 申請公布日 2021-08-03
分類號 C07H17/08;C07H1/06 分類 有機化學〔2〕;
發(fā)明人 商清海;李峰;周揚;熊天樂 申請（專利權）人 宜昌東陽光生化制藥有限公司
代理機構 宜昌市三峽專利事務所 代理人 成鋼
地址 443300 湖北省宜昌市宜都市陸城濱江路62號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種降低硫氰酸紅霉素溶劑殘留的方法，S1、將粗品硫氰酸紅霉素與溶劑混合，加氫氧化鈉溶液調pH在9.0～9.5，然后加入氯化鈉固體，攪拌后靜置，分相，得上清液I；向上清液I中加入飽和氯化鈉溶液，攪拌后再靜置，分相，取上清液II；S2、向上清液II中加入硫氰酸鈉，然后加入冰醋酸調節(jié)pH至7.4?7.8，再向其中加入當前溶液體積1.0?1.5BV的純化水，開啟乳化泵進行混合，降溫至10?15℃，離心，得硫氰酸紅霉素濕品，將濕品通過粉碎、干燥，即得硫氰酸紅霉素。本發(fā)明采用萃取、鹽析進行初步除雜，接著在酸性條件下制得硫氰酸紅霉素產品，再通過結晶、乳化泵進行提純。本發(fā)明工藝簡單，易于控制，得到的硫氰酸紅霉素具有溶劑殘留低、純度高的優(yōu)點。