高效發(fā)光二極管
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201520456605.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN204696143U | 公開(公告)日 | 2015-10-07 |
申請公布號 | CN204696143U | 申請公布日 | 2015-10-07 |
分類號 | H01L33/14(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 易漢平;王立彬 | 申請(專利權(quán))人 | 廣西清科紫荊科技開發(fā)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 天津?yàn)I??凭曋R產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李莉華 |
地址 | 300000 天津市寶坻區(qū)節(jié)能環(huán)保工業(yè)區(qū)天寶南環(huán)路8號401室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型所述高效發(fā)光二極管,其包括襯底,外延生長于襯底上的氮化鎵層,采用電子束蒸發(fā)蒸鍍于氮化鎵層表面的透明導(dǎo)電薄膜,所述透明導(dǎo)電薄膜上自透明導(dǎo)電薄膜上端面向下端面方向刻蝕有限流孔;限流孔貫通透明導(dǎo)電薄膜上、下端面;限流孔的橫截面為圓形、弧形或者矩形中的任一種;透明導(dǎo)電薄膜上的限流孔至少有一個。本高效發(fā)光二極管,在現(xiàn)有氮化鎵(GaN)基發(fā)光二極管的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上,通過在透明導(dǎo)電薄膜上增加限流孔,對透明導(dǎo)電薄膜相應(yīng)區(qū)域進(jìn)行減薄或刻蝕透處理,來限制透明導(dǎo)電薄膜上橫向電流的過度擴(kuò)展,使通過多量子阱發(fā)光層的電流密度均勻,從而提高內(nèi)量子效率,提高發(fā)光二極管的發(fā)光效率。 |
