用于制造RI標(biāo)記化合物的制造方法及制造裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110422914.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112898107A 公開（公告）日 2021-06-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN112898107A 申請(qǐng)公布日 2021-06-04
分類號(hào) C07B59/00;C07H5/02;C07H1/00;G21H5/02 分類 有機(jī)化學(xué)〔2〕;
發(fā)明人 高橋成人 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 新華錦集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 山東誠功律師事務(wù)所 代理人 孫曉愛
地址 266071 山東省青島市市南區(qū)香港中路20號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于RI標(biāo)記化合物制造領(lǐng)域，具體涉及一種用于制造RI標(biāo)記化合物的制造方法及制造裝置；本發(fā)明提供的制造方法包括氣體填充步驟、氣體密封步驟、放射線照射步驟、RI標(biāo)記化合物合成步驟、質(zhì)分離步驟；本發(fā)明提供的制造裝置包括氣體填充部分、氣體密封部分、放射線照射部分、RI標(biāo)記化合物合成部分、雜質(zhì)分離部分；通過本發(fā)明，可以實(shí)現(xiàn)靶子氣體的重復(fù)利用，降低制造成本，提高放射性同位素的制造效率，使輻射傷害的可能性降到最低，同時(shí)實(shí)現(xiàn)低價(jià)供給。