一種金屬掩膜版用高精度蝕刻機
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011637974.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112853355A | 公開(公告)日 | 2021-05-28 |
申請公布號 | CN112853355A | 申請公布日 | 2021-05-28 |
分類號 | C23F1/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 錢超;楊柯;牛恩眾;余強根 | 申請(專利權)人 | 常州高光半導體材料有限公司 |
代理機構 | 濟南鼎信專利商標代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 梁國海 |
地址 | 213311江蘇省常州市溧陽市埭頭鎮(zhèn)渡頭街8-2號13幢 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種金屬掩膜版用高精度蝕刻機,包括箱體,所述箱體的內(nèi)部活動安裝有托板,箱體的背面固定安裝有電動伸縮桿,電動伸縮桿的正面固定安裝有第一連接筒,第一連接筒的底部固定安裝有噴嘴,第一連接筒的頂部連通有第一伸縮軟管,第一伸縮軟管的頂部連通有噴淋泵,箱體的背面固定安裝有氣缸,氣缸的正面固定安裝有第二連接筒,第二連接筒的底部固定安裝有噴頭,第二連接筒的頂部連通有第二伸縮軟管。通過設置的電動伸縮桿和氣缸,可以讓噴嘴和噴頭進行移動,不必再設置大量的噴嘴來對金屬掩膜版進行噴射化學藥液蝕刻,不僅節(jié)省了大量的化學藥液,還可以及時的對金屬掩膜版進行噴水清理,提高了蝕刻機的工作效率,還降低了生產(chǎn)成本。?? |
