一種金屬掩膜版的加工方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111037978.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113737129A 公開(kāi)（公告）日 2021-12-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN113737129A 申請(qǐng)公布日 2021-12-03
分類(lèi)號(hào) C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23F1/02（2006.01）I;C23F4/00（2006.01）I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 錢(qián)超;楊柯;吳建 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 常州高光半導(dǎo)體材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董成
地址 213311江蘇省常州市溧陽(yáng)市埭頭鎮(zhèn)渡頭街8-2號(hào)13幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出的一種金屬掩膜版的加工方法，涉及蒸鍍掩膜領(lǐng)域。該加工方法在金屬片上分三步依次蝕刻加工出第一凹槽、兩個(gè)第二凹槽和第三凹槽；控制第一凹槽的寬度為d1、深度為h1；控制第二凹槽的寬度為d2′、深度為h2，兩個(gè)第二凹槽相遠(yuǎn)端的距離為d2；第三凹槽蝕刻至與兩個(gè)第二凹槽上下貫通形成一個(gè)呈整體的貫通孔，該貫通孔中，以所述的第三凹槽的側(cè)壁與第二凹槽的側(cè)壁的交界處為分界，形成寬度為d2、深度為h2′的上部孔體和寬度為d3、深度為h3的下部孔體。利用本發(fā)明的加工方法，能夠有效控制所述的上部孔體和下部孔體的尺寸精度和一致性，大幅度提高了金屬掩膜版的產(chǎn)出良率和一致性。