一種支撐掩膜版、支撐掩膜組件及蒸鍍掩膜部件

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122224788.2 申請日 -
公開（公告）號 CN215593170U 公開（公告）日 2022-01-21
申請公布號 CN215593170U 申請公布日 2022-01-21
分類號 C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 錢超;楊柯;吳建 申請（專利權(quán)）人 常州高光半導(dǎo)體材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董成
地址 213311江蘇省常州市溧陽市埭頭鎮(zhèn)渡頭街8-2號13幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提出的一種支撐掩膜版、支撐掩膜組件及蒸鍍掩膜部件，涉及蒸鍍掩膜領(lǐng)域。該支撐掩膜版上具有若干上下貫通的蒸鍍孔，蒸鍍孔呈矩形陣列的形式排列；所述的蒸鍍孔的上口處設(shè)置有凹槽，該凹槽從蒸鍍孔的上口邊緣向蒸鍍孔的外圍擴(kuò)展；凹槽的寬度為d1，蒸鍍孔的上口寬度為d2，1mm≤d1?d2≤3mm。所述的支撐掩膜組件包括上述支撐掩膜版和掩膜框架，支撐掩膜版設(shè)置在掩膜框架的上側(cè)。所述的蒸鍍掩膜部件包括上述的支撐掩膜組件和精細(xì)金屬掩膜版，精細(xì)金屬掩膜版設(shè)置在支撐掩膜版的上側(cè)。本實(shí)用新型用于蒸鍍時(shí)，能夠避免在顯示裝置的顯示區(qū)域邊緣產(chǎn)生“混色”缺陷，有利于提高顯示裝置的蒸鍍產(chǎn)出良率。