一種可重復(fù)使用的掩膜版蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110255637.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113018966A 公開（公告）日 2021-06-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN113018966A 申請(qǐng)公布日 2021-06-25
分類號(hào) B01D36/02;B01D29/64;B01D29/68 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 錢超;楊柯;牛恩眾;余強(qiáng)根 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 常州高光半導(dǎo)體材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董成
地址 213311 江蘇省常州市溧陽市埭頭鎮(zhèn)渡頭街8-2號(hào)13幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及環(huán)保設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種可重復(fù)使用的掩膜版蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，包括過濾箱，所述過濾箱的底面固定連接有支撐架，所述過濾箱頂部的內(nèi)側(cè)設(shè)置有第一過濾部件，所述第一過濾部件頂部的內(nèi)側(cè)固定套接有進(jìn)液管，所述過濾箱中部的內(nèi)側(cè)設(shè)置有自清理部件，所述自清理部件的正面固定安裝有同步傳動(dòng)部件。本發(fā)明通過第一過濾部件與二次過濾網(wǎng)板相互配合形成雙重過濾機(jī)構(gòu)，繼而分別對(duì)蝕刻機(jī)產(chǎn)生的廢蝕刻液進(jìn)行針對(duì)大雜質(zhì)的離心過濾以及針對(duì)小雜質(zhì)的流延過濾，完成對(duì)廢蝕刻液為循環(huán)再生處理前的預(yù)處理作業(yè)，大大降低后續(xù)離子膜電解設(shè)備、循環(huán)設(shè)備等設(shè)備的作業(yè)負(fù)荷以及各種設(shè)備內(nèi)部的存渣量。