一種薄膜沉積設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210042641.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN102560375B 公開(kāi)（公告）日 2014-01-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN102560375B 申請(qǐng)公布日 2014-01-29
分類(lèi)號(hào) C23C14/22(2006.01)I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 刁宏偉;彭錚;李媛媛;王巍 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 上海中智光纖通訊有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海泰能知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 代理人 上海中智光纖通訊有限公司;中智（泰興）電力科技有限公司
地址 201108 上海市閔行區(qū)金都路4299號(hào)208室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種薄膜沉積設(shè)備，包括基片預(yù)處理部分和薄膜沉積部分，基片預(yù)處理部分中基片裝入腔室、表面處理腔室和烘干腔室間由傳遞裝置對(duì)裝有基片的基片掛架進(jìn)行傳送；薄膜沉積部分中預(yù)熱腔與傳遞腔之間設(shè)有高真空插板閥；烘干腔室與預(yù)熱腔相連通，烘干腔室與預(yù)熱腔之間設(shè)有高真空插板閥；預(yù)熱腔內(nèi)設(shè)有基片掛架，烘干腔室內(nèi)設(shè)有將基片掛到預(yù)熱腔內(nèi)的基片掛架上的機(jī)械手；傳遞腔內(nèi)設(shè)有用于將預(yù)熱腔內(nèi)的基片送入薄膜沉積腔的三維旋轉(zhuǎn)機(jī)械手；預(yù)熱腔還分別與充氮裝置和抽真空裝置相連。本發(fā)明能夠避免由于外部沾污原因造成的性能下降，提高了工藝的穩(wěn)定性及重復(fù)性。