曝光機及基于光纖的均光光源

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023023314.3 申請日 -
公開（公告）號 CN214011720U 公開（公告）日 2021-08-20
申請公布號 CN214011720U 申請公布日 2021-08-20
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 馬建立;王東;侯若洪 申請（專利權(quán)）人 深圳光韻達光電科技股份有限公司
代理機構(gòu) 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 孟學(xué)英
地址 518000廣東省深圳市南山區(qū)高新區(qū)北區(qū)朗山路13號清華紫光科技園C座1層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型的實施例公開一種曝光機及基于光纖的均光光源。所述均光光源包括激光器、輸出光纖、矩形纖芯光纖和能調(diào)節(jié)靶面上的光斑大小的第一光學(xué)單元；所述激光器能將光輸入至所述輸出光纖的一端；所述輸出光纖的另一端能將光輸入至所述矩形纖芯光纖的一端；所述矩形纖芯光纖的另一端能將光輸入至所述第一光學(xué)單元；所述第一光學(xué)單元能將光投射至所述靶面。所述曝光機包括所述均光光源。本實用新型的實施例能減少光損耗。