透明電磁屏蔽薄膜結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920282492.6 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN209861471U 公開（公告）日 2019-12-27
申請公布號(hào) CN209861471U 申請公布日 2019-12-27
分類號(hào) H05K9/00（2006.01） 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 謝自民; 毛乃曄; 郭向陽; 陳春明; 平財(cái)明; 王慶軍 申請（專利權(quán)）人 蘇州藍(lán)沛光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余明偉
地址 215316 江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)城北開貴路11號(hào)3房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種電磁屏蔽薄膜結(jié)構(gòu)，透明電磁屏蔽薄膜結(jié)構(gòu)包括：透明基底；柔性材料層，位于透明基底的上表面，且柔性材料層的上表面形成有多個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)；導(dǎo)磁材料層，位于各凹槽結(jié)構(gòu)的底部：導(dǎo)電材料層，位于各凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi)，且位于導(dǎo)磁材料層的上表面；黑化處理層，位于各凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi)，且位于導(dǎo)電材料層的上表面。本實(shí)用新型的柔性材料層內(nèi)的凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi)形成導(dǎo)磁材料層及導(dǎo)電材料層，可以采用加成法電鍍形成導(dǎo)磁材料層及導(dǎo)電材料層，不需要采用真空濺射工藝及刻蝕工藝，不需要昂貴的設(shè)備，不會(huì)造成材料的浪費(fèi)，成本較低、生產(chǎn)工藝簡單，不會(huì)造成環(huán)保問題，可以制備線寬更小的導(dǎo)磁材料層及線寬更小的導(dǎo)電材料層，可以實(shí)現(xiàn)透明。