透明電磁屏蔽薄膜結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201920282492.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN209861471U | 公開(公告)日 | 2019-12-27 |
申請公布號 | CN209861471U | 申請公布日 | 2019-12-27 |
分類號 | H05K9/00(2006.01) | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
發(fā)明人 | 謝自民; 毛乃曄; 郭向陽; 陳春明; 平財明; 王慶軍 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州藍沛光電科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 余明偉 |
地址 | 215316 江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)城北開貴路11號3房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種電磁屏蔽薄膜結(jié)構(gòu),透明電磁屏蔽薄膜結(jié)構(gòu)包括:透明基底;柔性材料層,位于透明基底的上表面,且柔性材料層的上表面形成有多個凹槽結(jié)構(gòu);導磁材料層,位于各凹槽結(jié)構(gòu)的底部:導電材料層,位于各凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi),且位于導磁材料層的上表面;黑化處理層,位于各凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi),且位于導電材料層的上表面。本實用新型的柔性材料層內(nèi)的凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi)形成導磁材料層及導電材料層,可以采用加成法電鍍形成導磁材料層及導電材料層,不需要采用真空濺射工藝及刻蝕工藝,不需要昂貴的設(shè)備,不會造成材料的浪費,成本較低、生產(chǎn)工藝簡單,不會造成環(huán)保問題,可以制備線寬更小的導磁材料層及線寬更小的導電材料層,可以實現(xiàn)透明。 |
