一種化學(xué)氣相沉積裝置及其清潔方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510218357.1 申請日 -
公開（公告）號 CN106191809B 公開（公告）日 2018-12-25
申請公布號 CN106191809B 申請公布日 2018-12-25
分類號 C23C16/44;C23C16/455 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 杜志游;幸沛錦;范文遠(yuǎn);姜銀鑫 申請（專利權(quán)）人 南昌中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機構(gòu) 上海智信專利代理有限公司 代理人 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司;中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司;南昌中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
地址 201201 上海市浦東新區(qū)金橋出口加工區(qū)(南區(qū))泰華路188號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種化學(xué)氣相沉積裝置，包括：反應(yīng)腔，位于反應(yīng)腔上方的反應(yīng)區(qū)域和位于反應(yīng)腔底部的排氣區(qū)域，聯(lián)通到反應(yīng)腔外部的抽氣裝置；所述排氣區(qū)域包括一個隔離裝置，將排氣區(qū)域分隔為內(nèi)外排布的一個排氣腔和一個存儲腔，所述隔離裝置包括一個側(cè)壁，側(cè)壁上開設(shè)有氣體開口使排氣腔和存儲腔之間聯(lián)通，所述排氣區(qū)域還包括一個可上下移動的刮擦部件，其可以在所述排氣口的上下兩端之間移動。