一種發(fā)光均勻的頂發(fā)射垂直腔面發(fā)射激光器及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111059856.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113659424A 公開（公告）日 2021-11-16
申請公布號 CN113659424A 申請公布日 2021-11-16
分類號 H01S5/02（2006.01）I;H01S5/042（2006.01）I;H01S5/183（2006.01）I;B08B3/08（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 鄭君雄;崔雨舟;冉宏宇;王青 申請（專利權(quán)）人 深圳市中科光芯半導體科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 518000廣東省深圳市龍崗區(qū)寶龍街道寶龍社區(qū)寶龍四路2號安博科技寶龍廠區(qū)6號廠房101
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種發(fā)光均勻的頂發(fā)射垂直腔面發(fā)射激光器及其制備方法，該方法包括：在襯底上生長外延層（包括上下布拉格反射鏡、緩沖層、有源層、過渡層、限制層、接觸層）；通過光刻和干法刻蝕在外延層上形成臺面結(jié)構(gòu)；通過濕法處理對臺面結(jié)構(gòu)進行清洗；通過濕法氧化工藝氧化限制層，在中間形成出光孔；在獲得的臺面結(jié)構(gòu)上鍍膜金屬形成上下電極。制備方法優(yōu)點在于能夠提高激光器出射激光的均勻性，并有效抑制氧化過程中出現(xiàn)的分層現(xiàn)象，從而提高頂發(fā)射垂直腔面發(fā)射激光器的可靠性和穩(wěn)定性。通過本發(fā)明工藝制備得到的頂發(fā)射垂直腔面發(fā)射激光器克服了之前激光器出射光斑不均勻的問題，對開拓其在多個領(lǐng)域的應用十分有利。