電解銅陽(yáng)極淺氧化制備工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210554213.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103031570A 公開(kāi)（公告）日 2013-04-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN103031570A 申請(qǐng)公布日 2013-04-10
分類號(hào) C25C1/12(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 田開(kāi)斌;潘華;胡懷安 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 重慶重冶銅業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 402760 重慶市璧山縣三合鎮(zhèn)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種電解銅陽(yáng)極淺氧化制備工藝，以改善現(xiàn)有技術(shù)的效率。本方案中的電解銅陽(yáng)極淺氧化制備工藝，包括順序進(jìn)行的氧化精煉流程和脫氧還原流程，其特征在于：在氧化精煉流程中，當(dāng)氧化亞銅的含量達(dá)到3-5%即進(jìn)入下一步脫氧還原流程。銅原料不同，氧化的程度也不一樣。在氧化精煉過(guò)程中，通常要求銅液中含一定量的氧化亞銅，約8%左右，在此狀態(tài)下需保證雜質(zhì)已基本除去完全，但下一步脫氧還原需要大量的還原劑，造成冶煉時(shí)間延長(zhǎng)，不必要的氧化亞銅含量造成了工藝的浪費(fèi)。