一種實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻面的行星樣品臺(tái)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022036259.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212505052U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-02-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212505052U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-09 |
| 分類號(hào) | C23C14/50(2006.01)I; | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 金炯;楊林;王福清 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 浙江賽威科光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京沁優(yōu)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王麗君 |
| 地址 | 313000浙江省湖州市德清縣雷甸鎮(zhèn)白云南路866號(hào)9號(hào)樓D101室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻面的行星樣品臺(tái)，其技術(shù)方案要點(diǎn)是包括支架，支架內(nèi)設(shè)置有加熱區(qū)域，加熱區(qū)域包括中心轉(zhuǎn)軸和若干個(gè)加熱部，中心轉(zhuǎn)軸兩端分別開(kāi)設(shè)有U型槽，將基片放置在加熱部上，通過(guò)加熱盤對(duì)基片進(jìn)行加熱，并且通過(guò)第一升降組件可以調(diào)整加熱區(qū)域與加熱盤之間的距離，進(jìn)而控制加熱溫度，通過(guò)第二升降組件帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸的上下移動(dòng)，使得U型塊與U型槽相嵌或脫離，在旋轉(zhuǎn)組件的帶動(dòng)下，使得中心轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)，無(wú)需將電機(jī)設(shè)置在加熱區(qū)域，即可實(shí)現(xiàn)加熱部的周向移動(dòng)，并且通過(guò)翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)加熱區(qū)域的翻轉(zhuǎn)，使得對(duì)基片的加熱更加的均勻，又避免了對(duì)于基片雙面鍍膜情況下，需要停止鍍膜的問(wèn)題。?? |
