一種原位蒸鍍的弱等離子刻蝕設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022277392.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212874428U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-04-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212874428U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-02 |
| 分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 金炯;李存鑫;王福清 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 浙江賽威科光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京沁優(yōu)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張亞娟 |
| 地址 | 313000浙江省湖州市德清縣雷甸鎮(zhèn)白云南路866號(hào)9號(hào)樓D101室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種原位蒸鍍的弱等離子刻蝕設(shè)備，包括刻蝕腔體、弱等離子放射機(jī)構(gòu)、真空機(jī)構(gòu)、冷阱機(jī)構(gòu)、樣品托以及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，刻蝕腔體連接在拉曼光譜檢測(cè)蒸發(fā)室下方，樣品托位于刻蝕腔體內(nèi)，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)樣品托在豎直方向上運(yùn)動(dòng)以使樣品托靠近或遠(yuǎn)離拉曼光譜檢測(cè)蒸發(fā)室，弱等離子放射機(jī)構(gòu)包括導(dǎo)軌、射頻罩、石英玻璃管以及放氣電磁閥組件，石英玻璃管兩端均設(shè)有支架，射頻罩內(nèi)包括有纏繞在石英玻璃管上的射頻繞線以及支撐射頻繞線的支撐板，放氣電磁閥組件連接在石英玻璃管一端，放氣電磁閥組件與石英玻璃管以及刻蝕腔體均相通且構(gòu)成一個(gè)放射通道，放氣電磁閥組件用于將工藝氣體通入石英玻璃管內(nèi)；本實(shí)用新型優(yōu)點(diǎn)在于能夠控制刻蝕速度實(shí)現(xiàn)原子層厚度。?? |
