一種低光澤度高耐污染性復合釉、使用該復合釉的花崗巖瓷質(zhì)磚及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011056439.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112225454A | 公開(公告)日 | 2021-01-15 |
申請公布號 | CN112225454A | 申請公布日 | 2021-01-15 |
分類號 | C03C8/00(2006.01)I;C04B41/89(2006.01)I | 分類 | 玻璃;礦棉或渣棉; |
發(fā)明人 | 張松竹;尹偉;吳文武;陳琴云 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東清遠蒙娜麗莎建陶有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海瀚橋?qū)@硎聞账ㄆ胀ê匣铮?/td> | 代理人 | 廣東清遠蒙娜麗莎建陶有限公司 |
地址 | 511533廣東省清遠市清城區(qū)源潭鎮(zhèn)陶瓷工業(yè)城 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種低光澤度高耐污染性復合釉、使用該復合釉的花崗巖瓷質(zhì)磚及其制備方法。所述復合釉包括:以重量份計,啞光保護釉20~50份、砂巖干粒40~80份和印油80~120份;所述啞光保護釉的化學組成包括:以質(zhì)量百分比計,SiO2:36~46%、Al2O3:10~14.1%、BaO:21.1~27.2%、堿金屬氧化物3.6~6.4%;所述砂巖干粒的化學組成包括:以質(zhì)量百分比計,SiO243.5~47.6%,Al2O321.1~23.8%,CaO:16.1~18.2%、堿金屬氧化物:3.9~6.7%。?? |
