一種用于質(zhì)譜儀器的高樣品利用率離子源裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202122367020.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN216015292U | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN216015292U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-11 |
分類號(hào) | H01J49/10(2006.01)I;H01J49/02(2006.01)I;H01J49/26(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉洪濤;劉蘭;黃昊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門(mén)金諾花生物技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廈門(mén)原創(chuàng)專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王桂婷 |
地址 | 361000福建省廈門(mén)市翔安區(qū)市頭路98號(hào)二層B室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于質(zhì)譜儀器的高樣品利用率離子源裝置,包括加熱法蘭、加熱體、導(dǎo)熱塊、離子源、加熱管線、進(jìn)樣毛細(xì)管、密封圈、封堵頭。加熱法蘭包括水平設(shè)置的加熱部和垂直于加熱部一端設(shè)置的進(jìn)樣部,加熱部?jī)?nèi)沿水平方向開(kāi)設(shè)一安裝孔用于安裝加熱體,加熱體一端與外界大氣相通,導(dǎo)熱塊設(shè)置于加熱部上表面,離子源安裝于導(dǎo)熱塊之上。加熱管線包括第一加熱管、第二加熱管、加熱絲,第一加熱管設(shè)置于進(jìn)樣部上端外側(cè)并設(shè)有供第二加熱管穿過(guò)的軸向通孔,進(jìn)樣毛細(xì)管被加熱絲纏繞并穿過(guò)第二加熱管后伸入離子源內(nèi),且進(jìn)樣毛細(xì)管與離子源同軸線設(shè)置。第一加熱管和進(jìn)樣部之間由密封圈密封連接,第二加熱管的進(jìn)樣端由封堵頭密封。 |
