一種反應室八寸石墨盤防飛脫的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021621863.8 申請日 -
公開（公告）號 CN212713749U 公開（公告）日 2021-03-16
申請公布號 CN212713749U 申請公布日 2021-03-16
分類號 C23C16/458(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉燁 申請（專利權(quán)）人 陜西宇騰電子科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 710000陜西省西安市雁塔區(qū)長安南路農(nóng)林壹號小區(qū)1號樓1單元1902
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種反應室八寸石墨盤防飛脫的裝置，包括所述晶圓上設(shè)置有凹槽，所述晶圓的內(nèi)部設(shè)置有三個圓盤，所述凹槽設(shè)有角度10度的縮口，所述晶圓的底部設(shè)置有圓弧。本實用新型當在高溫生長階段，晶圓不會產(chǎn)生喬曲，此時搭配上整體行星式運轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速很高，可以減少晶圓產(chǎn)生飛脫。??