一種反應室石英支撐盤減薄的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021612282.8 申請日 -
公開（公告）號 CN212542368U 公開（公告）日 2021-02-12
申請公布號 CN212542368U 申請公布日 2021-02-12
分類號 H01L21/67(2006.01)I; 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉燁 申請（專利權(quán)）人 陜西宇騰電子科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 710000陜西省西安市雁塔區(qū)長安南路農(nóng)林壹號小區(qū)1號樓1單元1902
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種反應室石英支撐盤減薄的裝置，包括石英支撐盤，所述石英支撐盤設置有多個加強筋，所述石英支撐盤的中部開設有圓孔，所述石英支撐盤厚度為15mm。本實用新型通過將石英支撐盤1的厚度設置為15mm，在進行加工時，可以更好的適用于不同的薄膜材料，提高適用性。??