一種反應(yīng)室4寸石墨盤防飛脫的裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021614959.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN212713748U 公開（公告）日 2021-03-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN212713748U 申請(qǐng)公布日 2021-03-16
分類號(hào) C23C16/458(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉燁 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 陜西宇騰電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 710000陜西省西安市雁塔區(qū)長安南路農(nóng)林壹號(hào)小區(qū)1號(hào)樓1單元1902
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種反應(yīng)室4寸石墨盤防飛脫的裝置，包括晶圓，所述晶圓上設(shè)置有凹槽，所述凹槽設(shè)有角度13～15度的縮口，所述晶圓的底部設(shè)置有圓弧。本實(shí)用新型當(dāng)在高溫生長階段，晶圓不會(huì)產(chǎn)生喬曲，此時(shí)搭配上整體行星式運(yùn)轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速很高，可以減少晶圓產(chǎn)生飛脫。