一種反應(yīng)室環(huán)繞式石英槽壁粗糙度控制的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021612105.X 申請日 -
公開（公告）號 CN212713745U 公開（公告）日 2021-03-16
申請公布號 CN212713745U 申請公布日 2021-03-16
分類號 C23C16/44(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉燁 申請（專利權(quán)）人 陜西宇騰電子科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 710000陜西省西安市雁塔區(qū)長安南路農(nóng)林壹號小區(qū)1號樓1單元1902
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種反應(yīng)室環(huán)繞式石英槽壁粗糙度控制的裝置，包括石英蓋板，所述石英蓋板的一側(cè)開設(shè)有第一弧形口，所述石英蓋板的另一側(cè)開設(shè)有第二弧形口，所述石英蓋板上開設(shè)有定位孔。本實用新型通過設(shè)有的石英蓋板使得殘余沉積物會不會容易剝落下來，減少落在待處理的基板上，減少基板表面缺陷，從而提高半導(dǎo)體的電學(xué)性能，同時還可以進行石英槽壁粗糙度控制，將石英槽壁的粗糙度控制在控制4～8(RA值)。??