光學顯示裝置的制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110768895.3 申請日 -
公開（公告）號 CN113488603A 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN113488603A 申請公布日 2021-10-08
分類號 H01L51/56（2006.01）I;H01L51/52（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 施宏欣 申請（專利權）人 業(yè)成光電（深圳）有限公司
代理機構 成都希盛知識產權代理有限公司 代理人 楊冬梅;張行知
地址 611730四川省成都市高新區(qū)西區(qū)合作路689號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種光學顯示裝置的制作方法，首先以物理氣相沉積法于一顯示層上正向形成一第一無機氧化物膜，接著以物理氣相沉積法于第一無機氧化物膜上斜向形成至少一層第二無機氧化物膜，再來以物理氣相沉積法于第二無機氧化物膜上正向形成一第三無機氧化物膜。最后，以物理氣相沉積法于第三無機氧化物膜上依序斜向形成至少一層第四無機氧化物膜與至少一層第五無機氧化物膜，以于顯示層上形成圓偏光層。由于圓偏光層是以物理氣相沉積層所形成，所以不受應力累積的影響，當設于可撓性基板上時，不須考慮多重彎曲對稱軸的影響。