半導體顯示襯底的化學清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020348017.7 申請日 -
公開（公告）號 CN211965189U 公開（公告）日 2020-11-20
申請公布號 CN211965189U 申請公布日 2020-11-20
分類號 B08B3/10(2006.01)I 分類 清潔;
發(fā)明人 陸雄;王文彬;魏航;陶金;周文 申請（專利權(quán)）人 重慶芯潔科技有限公司
代理機構(gòu) 北京中政聯(lián)科專利代理事務所（普通合伙） 代理人 韓璐
地址 400000重慶市九龍坡區(qū)西彭鎮(zhèn)西彭園區(qū)D40標準廠房5號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于半導體襯底技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種半導體顯示襯底的化學清洗設(shè)備，包括清洗槽、清洗治具和驅(qū)動機構(gòu)，清洗治具用于放置半導體顯示襯底，包括安裝框架和多個放置結(jié)構(gòu)，驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動清洗治具作上下往復直線運動。本實用新型所提供的半導體顯示襯底的化學清洗設(shè)備，清洗效率較高。??