一種電磁波單向透射器件
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201620361729.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN205608219U | 公開(kāi)(公告)日 | 2016-09-28 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN205608219U | 申請(qǐng)公布日 | 2016-09-28 |
分類號(hào) | G02B1/00(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 許吉;何鑫;潘美瞳;李同;王勝明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇南郵物聯(lián)網(wǎng)科技園有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京知識(shí)律師事務(wù)所 | 代理人 | 南京郵電大學(xué) |
地址 | 210023 江蘇省南京市棲霞區(qū)文苑路9號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電磁波單向透射器件,其特征在于包括:雙曲超材料結(jié)構(gòu)以及雙曲超材料頂部的第一金屬周期陣列和底部的第二金屬周期陣列;其中所述雙曲超材料結(jié)構(gòu)是由30nm厚的Ag和25nm厚的SiO2交替排列所組成的堆疊結(jié)構(gòu);所述第一金屬周期陣列由二維陣列分布的金屬衍射光柵構(gòu)成,其周期為280nm;所述第二金屬周期陣列由二維陣列分布的金屬衍射光柵構(gòu)成,其周期為200nm。將一維光柵結(jié)構(gòu)改進(jìn)為二維陣列光柵結(jié)構(gòu),形成了對(duì)于各個(gè)偏振態(tài)均有效的單向透射器件;再通過(guò)適當(dāng)減少雙曲超材料的周期數(shù),提高了單向透射的透過(guò)率和對(duì)比度;最終實(shí)現(xiàn)了偏振無(wú)依賴和增強(qiáng)透射的目的。本實(shí)用新型提出了一種能夠?qū)Ω鞣N偏振態(tài)均有效、具有較高對(duì)比度的單向透射器件。 |
