金屬掩膜板

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022456921.2 申請日 -
公開（公告）號 CN213924981U 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN213924981U 申請公布日 2021-08-10
分類號 C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周磊;竇沛靜;張競中 申請（專利權(quán)）人 珠海和澤科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 張龍哺
地址 519045廣東省珠海市金灣區(qū)聯(lián)港工業(yè)區(qū)雙林片區(qū)虹輝5路7號廠房3棟第一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種金屬掩膜板，包括中部鏤空的掩膜板體，所述掩膜板體的上表面設(shè)置有若干凸部。真空鍍膜機(jī)為基體鍍膜前，先將掩膜板體設(shè)置在真空鍍膜機(jī)上靠近待鍍基體的區(qū)域，從而將該區(qū)域遮住并使得基體放置于掩膜板體鏤空的中部；真空鍍膜機(jī)為產(chǎn)品鍍膜時，鍍料的原子部分被電離成離子，離子沉積于基體表面形成薄膜。鍍膜過程中，多余的離子會沉積在掩膜板體上，而由于掩膜板體的上表面設(shè)置有若干凸部，所以掩膜板體的上表面的粗糙度足夠大，能夠有效實(shí)現(xiàn)沉膜功能。因此，根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的金屬掩膜板，能夠吸收鍍膜過程中多余的離子，對真空鍍膜機(jī)起到了很好的保護(hù)作用。