一種印制電路板盲孔填銅用酸性鍍銅液及其盲孔填銅方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910542332.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110106536B | 公開(公告)日 | 2021-04-20 |
申請公布號 | CN110106536B | 申請公布日 | 2021-04-20 |
分類號 | C25D5/20(2006.01)I;C25D3/38(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 李亮亮 | 申請(專利權(quán))人 | 通元科技(惠州)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京貴都專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 李新鋒 |
地址 | 516000廣東省惠州市惠城區(qū)水口鎮(zhèn)東江工業(yè)區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種印制電路板盲孔填銅用酸性鍍銅液及其盲孔填銅方法,該酸性鍍銅液包括以下濃度的組分:H2SO470?80g/L、CuSO4·5H2O 200?220g/L、Cl?50?60mg/L、環(huán)氧乙烷?環(huán)氧丙烷嵌段共聚物58?62mg/L、辛基酚聚氧乙烯醚8?12mg/L、苯基聚二硫丙烷磺酸鈉6?8mg/L、四氫噻唑硫酮12?14mg/L、季銨化聚乙烯亞胺28?32mg/L,余量為水。該印制電路板盲孔填銅用酸性鍍銅液及其盲孔填銅方法,對電路板盲孔填銅的沉積效率高,盲孔內(nèi)部銅沉積狀態(tài)好,盲孔處凹陷度小,對小孔徑、大深徑比的盲孔填孔率高,銅鍍層致密均勻、強度高,滿足印制電路板的使用要求。?? |
