非過濾物理方式阻垢除垢設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202122350810.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN215946834U | 公開（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申請公布號(hào) | CN215946834U | 申請公布日 | 2022-03-04 |
| 分類號(hào) | C02F1/44（2006.01）I;B01D65/02（2006.01）I;C02F101/30（2006.01）N | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
| 發(fā)明人 | 魏林波;張昱;梁超 | 申請（專利權(quán)）人 | 西安特拉多姆節(jié)能環(huán)保科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京安度修典專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 楊方成;馬歡萍 |
| 地址 | 710005陜西省西安市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)未央路170號(hào)賽高城市廣場2號(hào)樓企業(yè)總部大廈13層08室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供一種非過濾物理方式阻垢除垢設(shè)備，屬于水處理設(shè)備制造領(lǐng)域，本實(shí)用新型包括：濾網(wǎng)和多個(gè)表面等離子共振除垢裝置；所述濾網(wǎng)上開設(shè)有多個(gè)均勻布置的過濾孔，多個(gè)所述表面等離子共振除垢裝置安裝于所述過濾孔邊緣；所述表面等離子共振除垢裝置包括：晶體容腔；該晶體容腔內(nèi)填充有惰性氣體和堿金屬氣體；所述晶體容腔的兩端設(shè)置有電極。本實(shí)用新型的阻垢除垢設(shè)備通過在濾網(wǎng)的過濾孔上設(shè)置表面等離子共振除垢裝置，利用外置的電磁波的頻率等于等離子體的特征頻率，使得產(chǎn)生“共振”現(xiàn)象，從而阻止有機(jī)分子粘附于表面等離子共振除垢裝置，從而保證濾網(wǎng)能夠持久無垢的工作。 |
