自動除垢的水循環(huán)系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202122347953.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215947036U | 公開(公告)日 | 2022-03-04 |
申請公布號 | CN215947036U | 申請公布日 | 2022-03-04 |
分類號 | C02F9/12(2006.01)I;C02F101/30(2006.01)N | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
發(fā)明人 | 魏林波;張昱;梁超 | 申請(專利權(quán))人 | 西安特拉多姆節(jié)能環(huán)??萍加邢薰?/a> |
代理機構(gòu) | 北京安度修典專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 楊方成;馬歡萍 |
地址 | 710005陜西省西安市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)未央路170號賽高城市廣場2號樓-企業(yè)總部大廈13層08室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種自動除垢的水循環(huán)系統(tǒng),屬于水處理設(shè)備制造領(lǐng)域,本實用新型包括:回流水箱、過濾裝置和增壓水泵;回流水箱安裝于所述過濾裝置的上方,過濾裝置的底部設(shè)置有暫存水箱,增壓水泵安裝于所述暫存水箱內(nèi);過濾裝置包括:多層濾網(wǎng);相鄰兩層濾網(wǎng)之間設(shè)置有表面等離子共振除垢裝置;表面等離子共振除垢裝置包括:晶體容腔;該晶體容腔內(nèi)填充有惰性氣體和堿金屬氣體;晶體容腔的兩端設(shè)置有電極。本實用新型的水循環(huán)系統(tǒng)通過回流水箱回收回流水,經(jīng)過濾裝置后再次被增壓水泵送出;利用濾網(wǎng)之間設(shè)置的表面等離子共振除垢裝置,從而使一些特定的有機分子粘附于表面等離子共振除垢裝置的表面,從而保證水循環(huán)系統(tǒng)能夠持久無污染的運行。 |
