一種大面積均勻的脈沖激光濺射鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911005892.3 申請日 -
公開（公告）號 CN110592541A 公開（公告）日 2019-12-20
申請公布號 CN110592541A 申請公布日 2019-12-20
分類號 C23C14/34（2006.01）; C23C14/50（2006.01） 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫輝; 高婷 申請（專利權(quán)）人 武漢奧億特科技有限公司
代理機構(gòu) 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 武漢奧億特科技有限公司
地址 430000 湖北省武漢市東西湖區(qū)長青辦事處勝河路38號(7)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種大面積均勻的脈沖激光濺射鍍膜裝置，包括箱體，箱體的底部固定連接有支撐腿，箱體的兩側(cè)均固定連接有進光筒，兩個進光筒相對的一端均貫穿箱體并延伸至箱體的內(nèi)部，進光筒內(nèi)壁的頂部與底部均固定連接有滑軌，并且兩個滑軌相對的一側(cè)之間滑動連接有第一活動板，本發(fā)明涉及激光濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。該大面積均勻的脈沖激光濺射鍍膜裝置，兩側(cè)可以同時射入激光，能夠保證在溫度不變的前提下，調(diào)整光斑的大小，從而增大鍍膜面積，使鍍膜更均勻，光斑能夠打在靶材不同的位置，使靶材兩邊能夠同時進行濺射鍍膜工作，加快了工作效率，激光能夠投射在靶材不同的位置，提高靶材的利用率，實用性更高。