激光共聚焦測(cè)高方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010467720.4 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN111366088B 公開(公告)日 2020-07-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN111366088B 申請(qǐng)公布日 2020-07-03
分類號(hào) G01B11/06(2006.01)I;G01B11/30(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 馬雙雙;李夢(mèng)夢(mèng) 申請(qǐng)(專利權(quán))人 嘉興景焱智能裝備技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海霖睿專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 嘉興景焱智能裝備技術(shù)有限公司
地址 314100浙江省嘉興市嘉善縣羅星街道歸谷二路33號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及精密光學(xué)儀器測(cè)量系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種激光共聚焦測(cè)高系統(tǒng),包括共聚焦直線光路和激光光源,在所述激光光源與其后側(cè)的照明后鏡組之間設(shè)置雙孔模塊,所述雙孔模塊包括并排布置的第二分光棱鏡和第三分光棱鏡,所述第三分光棱鏡的分光面與第二分光棱鏡的分光面在激光光路的法向面上翻轉(zhuǎn)90度,在第三分光棱鏡的透光光路和分光光路上,分別設(shè)置正離焦測(cè)試PMT和負(fù)離焦測(cè)試PMT,在正離焦測(cè)試PMT的光路上的正離焦位置設(shè)置正離焦小孔,在負(fù)離焦測(cè)試PMT的光路上的負(fù)離焦位置設(shè)置負(fù)離焦小孔。本發(fā)明還公開了激光共聚焦測(cè)高方法。本發(fā)明對(duì)待測(cè)物面的高度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)高功能,并能判斷表面具體的凸凹特征。??